ASML宣布国内再招200员工 保障光刻机正常运转
国内的半导体产业正在高速发展，半导体制造也是重中之重，这些也离不开ASML公司的光刻机供应，后者已经宣布今年在国内再招200员工，保障客户的生产运营正常运转。 据ASML公司所说，为了应对上海最近的一波疫情，公司成立了危机应对小组，由中国区管理团队，
ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进程
半导体行业花了十多年的时间来准备极紫外线 (EUV) 光刻技术，而新的高数值孔径 EUV 光刻（High-NA EUV）技术将会比这更快。 目前来看，这种分辨率尺寸对于 7 nm / 6 nm 节点 (36 nm ~ 38 nm) 和 5nm (30 nm ~ 32 nm) 的单模已经足够用了，但随着间距低于 30
中国光刻机之殇：入华32年，ASML出货700多台，但EUV被美国管制
ASML 必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，我们对全球客户都一视同仁，只要是我们能够提供的技术和设备，我们都会全力支持。 可以看到，如果排除外界因素的干扰，ASML 自身是很有诚意与中国合作的。
ASML首席执行官：对华出口管制会最终“自讨苦吃”
ASML CEO彼得温宁克昨日（Peter Wennink）表示，对华技术出口管制不仅不能阻止中国的技术进步，反而会最终损害美国经济。 据彭博社4月14日报道，Wennink在周三的线上行业活动中说：如果你觉得存在经济风险，并且想找到解决之道，那么出口管制并不是管控风险