ASML 必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，我们对全球客户都一视同仁，只要是我们能够提供的技术和设备，我们都会全力支持。

 

可以看到，如果排除外界因素的干扰，ASML 自身是很有诚意与中国合作的。

 

雷锋网了解到，ASML 成立于 1984 年；当时，市面上尚有多家生产光刻机的公司，而 ASML 位居最后一名。不过，仅用 2 年时间，ASML 就研制出了型号为 PAS2500 的晶圆步进式光刻机（Stepper），它可以生产 VLSI 一代的芯片，这使 ASML 在市场上站稳了脚跟，并拥有了一定的名气。

 

值得一提的是，早在 1988 年，ASML 在进军亚洲之时，就向中国大陆发售了最早一台设备。

 

经过三十多年的深耕，ASML 在中国大陆已经出售 700 多台光刻机装机，涵盖了 ASML 公司的（EUV 设备之外）的绝大部分类型产品。

 

不仅如此，在 2000 年天津成立分公司的基础上，ASML 目前在中国设有 12 个办公室，11 个仓储物流中心，2 处技术开发中心（深圳和北京，做计算光刻、量测等开发），拥有 1000 多名员工。

 

此外，ASML 还在中国专门建设了 1 个培训中心，培养光刻行业人才。

 

正如沈波所言，在遵守法律法规的同时，ASML 全力支持客户和中国集成电路行业的发展，在每个阶段 ASML 和中国集成电路业界都有着很好的合作。

 

他还表示，ASML 在中国的整体状态越来越好，未来服务会更多样化，对中国的投入也会越来越大。

 

EUV 光刻机未能出口中国大陆的根本原因

 

作为全球最大的光刻机企业，ASML 独自享受着 EUV 光刻机技术带来的商业发展便利，但同时也不得不承受大国竞争和冲突下的沉重政治枷锁。

 

一个典型的案例，就是 EUV 光刻机向中国大陆出口受阻。

 

EUV 光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了 22nm-7nm，可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备，只有 ASML 能造出来。

 

在 EUV 技术的研发层面，ASML 也经历了艰苦跋涉的过程。

 

实际上 ASML 从 1999 年就开始 EUV 光刻机的研发工作，原计划在 2004 年推出产品，但直到 2010 年才研发出第一台 EUV 原型机，2016 年才实现下游客户供货——甚至到 2019 年，第一款 7nm EUV 工艺的芯片才正走向商用。

 

不过，在美国主导的《瓦森纳协定》（Wassenaar Arrangement）的影响下，这一高端设备对中国大陆的出口受到严格限制——一直到 2018 年才发生转机。